सल्फर-मुक्ति स्प्रे टावर (दोहरी क्षार विधि)

एचएलपी-द्वितीय टाइप I डिसल्फराइजेशन स्प्रे टावर

नि: प्रकार का डिसल्फराइजेशन स्प्रे टावर SO2 के अवशोषण और शुद्धिकरण के लिए मुख्य उपकरण है। स्प्रे टावर दो प्रकार के होते हैं: बड़े आकार के टावर और छोटे एवं मध्यम आकार के टावर। यह फ्लू गैस को लगातार और कुशलतापूर्वक तुरंत शुद्ध कर सकता है। सरल संरचना और उन्नत तकनीक के फायदों के कारण, स्प्रे टावर का उपयोग बड़े पावर प्लांटों और छोटे एवं मध्यम आकार के औद्योगिक बॉयलरों के फ्लू गैस उपचार में व्यापक रूप से किया जाता है।

टावर के आंतरिक जंगरोधी परत का परिष्करण उपचार:

1. निर्माण पूरा होने के बाद कार्बन स्टील टावर की पिसाई, सैंडब्लास्टिंग और जंग हटाने की प्रक्रिया;

2. टावर पूरी तरह से 5 मिमी मोटी एफआरपी जंगरोधी परत से ढका हुआ है;

3. विशेष उच्च शक्ति वाली रेजिन सीमेंट कोटिंग;

4. इसमें 30 मिमी प्राकृतिक ग्रेनाइट की परत लगाई गई है, जिसका तापमान प्रतिरोध 200 डिग्री सेल्सियस है और इसकी सेवा अवधि 30 वर्ष निर्धारित की गई है।

विशेषताएँ

1. गैस और तरल के संपर्क में आने पर संपर्क क्षेत्र और संपर्क समय अधिक होता है;

2. तीव्र व्यवधान और उच्च SO2 अवशोषण दक्षता; उचित परिचालन लचीलेपन के साथ स्थिर संचालन;

3. वायु प्रवाह के गुजरने पर दाब में कमी कम होती है;

4. सरल संरचना, आसान रखरखाव और लंबी सेवा आयु;

5. परत नहीं जमती, अवरोध नहीं होता, घिसाव प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी, उच्च तापमान प्रतिरोधी।

दोहरी क्षार विधि में टावर में सल्फर हटाने के लिए सोडियम आधारित डिसल्फराइज़र का उपयोग किया जाता है। SO2 की प्रबल क्षारीयता के कारण, अभिक्रिया उत्पाद की घुलनशीलता अधिक होती है, जिससे अतिसंतृप्त क्रिस्टलीकरण और परत जमने की समस्या नहीं होती है।

दोहरी क्षार द्रव गैस विसल्फरीकरण तकनीक में सोडियम हाइड्रॉक्साइड विलयन को प्रारंभिक विसल्फराइज़र के रूप में उपयोग किया जाता है। तैयार सोडियम हाइड्रॉक्साइड विलयन को सीधे विसल्फरीकरण टावर में डाला जाता है ताकि द्रव गैस में मौजूद SO2 को हटाया जा सके और द्रव गैस विसल्फरीकरण का उद्देश्य पूरा हो सके। विसल्फरीकरण अपशिष्ट द्रव को कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड के साथ अपचयन और पुनर्जनन के लिए पुनर्जनन टैंक में छोड़ा जाता है। पुनर्जनित सोडियम-आधारित विसल्फराइज़र को पुनर्चक्रण के लिए विसल्फरीकरण टावर में वापस भेज दिया जाता है। कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड पुनर्जनन अभिक्रिया की स्थिति में, विसल्फरीकरण उप-उत्पाद कैल्शियम सल्फेट या कैल्शियम सल्फाइट को जल निकाय में छोड़ दिया जाता है।

दोहरी क्षार विसल्फरीकरण प्रक्रिया निवेश और परिचालन लागत को कम करती है और छोटे और मध्यम आकार के बॉयलरों के विसल्फरीकरण के लिए अधिक उपयुक्त है।

डीसल्फराइजेशन टावर के अंदर स्थित डेमिस्टर में दो परतों वाली बैफल प्लेट और तीन परतों वाली फ्लशिंग का संयोजन वाला डिज़ाइन अपनाया गया है, जो डीमिस्टिंग प्रभाव को काफी हद तक बढ़ाता है, वेट इलेक्ट्रोस्टैटिक प्रेसिपिटेटर में प्रवेश करने वाली फ्लू गैस की नमी की मात्रा को प्रभावी ढंग से कम करता है, और चार्जिंग दक्षता और धूल संग्रह प्रभाव को और बेहतर बनाता है।

विनिर्माण एवं उत्पादन क्षमता

बिक्री पश्चात सेवा

हैना साइट पर ही इंस्टॉलेशन, कमीशनिंग और तकनीकी प्रशिक्षण प्रदान करती है। दीर्घकालिक परिचालन स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए परियोजना पूरी होने के बाद नियमित रूप से अनुवर्ती निरीक्षण की व्यवस्था की जाती है।

अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

1. सल्फर हटाने की दक्षता अस्थिर क्यों है और दीर्घकालिक स्थिर अनुपालन की गारंटी क्यों नहीं दे सकती, इसके क्या कारण हैं और इन्हें कैसे हल किया जा सकता है?
इसका मुख्य कारण यह है कि स्प्रे परत का डिजाइन अतार्किक है और तरल-गैस अनुपात अपर्याप्त है, जिसके परिणामस्वरूप सल्फर-मुक्ति दक्षता में उतार-चढ़ाव होता है।

हमारी कंपनी तीन या चार चरणों वाली स्प्रे प्रणाली का उपयोग करती है: बहु-परत द्विदिशात्मक अपकेंद्री नोजल इस प्रकार व्यवस्थित किए गए हैं कि टॉवर में फ्लू गैस और स्लरी के बीच पूर्ण संपर्क, पूर्ण अभिक्रिया और 98.5% या उससे अधिक की स्थिर सल्फर-मुक्ति दक्षता सुनिश्चित हो सके। इससे आसानी से इसलिए₂ का स्तर ≤ 35 मिलीग्राम/मी³ या उससे भी कम प्राप्त किया जा सकता है। साथ ही, द्रव-गैस अनुपात को सटीक रूप से डिज़ाइन किया गया है: इसे इनलेट इसलिए₂ सांद्रता के अनुसार सटीक रूप से परिकलित किया जाता है, जो न केवल दक्षता सुनिश्चित करता है बल्कि अत्यधिक खपत से भी बचाता है।

2. टावर के ढांचे, नोजल और पाइपलाइनों में जंग लगने और छिद्र होने के क्या कारण और समाधान हैं, जिसके परिणामस्वरूप सेवा जीवन कम हो जाता है?

इसके कारण निम्नलिखित हैं: ① अम्लीय घोल और नमीयुक्त क्लोराइड-आयन वातावरण के कारण कार्बन-स्टील टावर का ढांचा थोड़े ही समय में संक्षारित होकर रिसाव करने लगता है। ② नोजल जल्दी घिस जाते हैं, उन्हें बार-बार बदलना पड़ता है, जिससे रखरखाव की लागत बढ़ जाती है।
    हमारी कंपनी की जंगरोधी तकनीक: हम जंग की समस्या को पूरी तरह से हल करने के लिए स्टील-लाइन वाले फाइबरग्लास/ग्रेनाइट की एकीकृत वाइंडिंग प्रक्रिया अपनाते हैं। हम वादा करते हैं कि मुख्य कैन उपकरण का सेवा जीवन 30 वर्ष तक पहुंचता है, जो पारंपरिक कार्बन-स्टील रबर लाइनिंग (3-5 वर्ष) से ​​कहीं अधिक है। 2. घिसाव-प्रतिरोधी और जंग-प्रतिरोधी: हम सिलिकॉन कार्बाइड या पॉलिमर सामग्री से बने नोजल का चयन करते हैं, जिनमें घिसाव और जंग के प्रति मजबूत प्रतिरोध और लंबा सेवा जीवन होता है।

सल्फर हटाने वाले टावर की उच्च परिचालन लागत के क्या कारण हैं?

इसके कारण निम्नलिखित हैं: ① बहु-परत स्प्रे और परिसंचारी पंपों के कारण बड़े सिस्टम में प्रतिरोध उत्पन्न होता है, और बिजली की लागत मुख्य व्यय है। ② चूने/क्षार की खपत अधिक है, अवशोषक की उपयोग दर कम है, और सामग्री की लागत अधिक है।

हमारी कंपनी दबाव हानि को कम करने के लिए उच्च-दक्षता वाले डेमिस्टर का उपयोग करती है: टावर के शीर्ष पर एक उच्च-दक्षता वाला रूफ-टाइप डेमिस्टर लगाया जाता है ताकि कुल सिस्टम प्रतिरोध को कम किया जा सके, जिससे प्रेरित ड्राफ्ट फैन की बिजली खपत कम हो जाती है। अवशोषक की उपयोग दर में सुधार: चूने/क्षार की उपयोग दर में सुधार करने और अप्रभावी खपत को कम करने के लिए पीएच मान नियंत्रण को अनुकूलित करने और प्रतिक्रिया समय बढ़ाने जैसे उपाय किए जाते हैं।